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A simple model to analyze electron confinement and trapping in silicon nanodots

Producción científica: Capítulo del libro/informe/acta de congresoContribución a la conferenciarevisión exhaustiva

Resumen

A procedure has been developed for analyzing charge confinement and trapping processes in silicon nanodots embedded in the oxide of a Metal-Oxide-Semiconductor structure. The electron levels and envelope functions in both the 2DEG in the silicon substrate and the 0DEG in the nanodot have been computed by self-consistently solving the Poisson and Schrödinger equations, including non-parabolicity corrections. The transfer probabilities between the two systems have been evaluated with the Bardeen formalism by adapting a procedure previously used in quantum-dot lasers.

Idioma originalInglés
Título de la publicación alojada2005 Spanish Conference on Electron Devices, Proceedings
Páginas345-348
Número de páginas4
DOI
EstadoPublicada - 1 dic. 2005
Publicado de forma externa
Evento2005 Spanish Conference on Electron Devices - Tarragona, Espana
Duración: 2 feb. 20054 feb. 2005

Serie de la publicación

Nombre2005 Spanish Conference on Electron Devices, Proceedings
Volumen2005

Conferencia

Conferencia2005 Spanish Conference on Electron Devices
País/TerritorioEspana
CiudadTarragona
Período2/02/054/02/05

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'A simple model to analyze electron confinement and trapping in silicon nanodots'. En conjunto forman una huella única.

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