Monte Carlo study on electron transport properties in double-gate fully depleted SOI-MOSFETs

  • F. Gámiz
  • , J. B. Roldán
  • , J. A. López-Villanueva
  • , J. E. Carceller

Producción científica: Capítulo del libro/informe/acta de congresoContribución a la conferenciarevisión exhaustiva

Resumen

The transport properties of very thin double gate SOI MOSFETs, have been studied. We have shown the importance of volume inversion, which greatly reduces the dependence of the electron mobility on the surface scattering mechanisms, and enhances the mobility at high inversion charge concentrations. We have also shown that if the silicon film is extremely thin, electron mobility abruptly decreases due to stronger phonon scattering.

Idioma originalInglés
Título de la publicación alojadaEuropean Solid-State Device Research Conference
EditoresH. Grunbacher
EditorialIEEE Computer Society
Páginas208-211
Número de páginas4
ISBN (versión digital)2863322214
DOI
EstadoPublicada - 1 ene. 1997
Publicado de forma externa
Evento27th European Solid-State Device Research Conference, ESSDERC 1997 - Stuttgart, Alemania
Duración: 22 set. 199724 set. 1997

Serie de la publicación

NombreEuropean Solid-State Device Research Conference
ISSN (versión impresa)1930-8876

Conferencia

Conferencia27th European Solid-State Device Research Conference, ESSDERC 1997
País/TerritorioAlemania
CiudadStuttgart
Período22/09/9724/09/97

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Monte Carlo study on electron transport properties in double-gate fully depleted SOI-MOSFETs'. En conjunto forman una huella única.

Citar esto